纳米硅溶胶制备水性抛光膜涂布剂，抛光效果更好

超精密研磨与抛光拥有很广阔的市场，例如，在信息产业中，计算机上的芯片、磁 盘和磁头，录像机上的磁鼓，复印机的感光鼓、光盘和激光头，喷墨打印机的喷墨头等都需 要超精密加工才能达到产品性能要求；在民用产品中，现在小型、超小型成像设备，如微型 摄像机、针孔照相机等都需要超精密研磨与抛光。

光纤连接器是组成光纤系统最重要的光源器件之一，在性能上要求其插入损耗更低、回波损耗更高，以提高光纤传输系统的可靠性。光纤连接器的研磨与抛光对其光学性能的提高起着关键作用。

目前，大多涂布剂为非反应性有机聚硅氧烷、有机溶剂和固化催化剂而得的组合 物。然而，就这些涂布剂中的非反应性的有机聚硅烷、有机溶剂经时性地挥发散逸，不易燃 易爆，污染环境，且涂布操作困难，且由这些涂布剂制得的抛光膜的性能(如抛光率、寿命、 研磨层的附着力等)较差。

经研究表明：添加纳米硅溶胶CY-S01A的水性纳米抛光膜涂布剂，通过涂布机将水性纳米抛光膜涂布，PET薄膜电晕值达到48达因，通过8～12微米涂布涂筒均匀的涂布到45～70微米PET光膜上，经过100 ～120℃烘箱烘烤1～3分钟即可，模切成所需要的形状和尺寸，用于光纤连接器和光纤阵列 的最终抛光，也可用于精密光学器件的超精密加工。

使用改水性纳米抛光膜涂布剂制成的抛光膜进行抛光后，被抛光器件的表面将变得很光滑、呈镜面，器件表面无任何凹坑、 划伤或异物黏着等不良现象。

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